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氧化铝吸附可以理想的用来保留氯代化合物，特别是CFCs(氯氟碳化合物)，如 Freon®产品。它有高选择性，可以在高于环境温度的条件下分离大部分CFC同 分异构体。Rt®-Alumina BOND/CFC色谱柱进行了去活化处理降低了氧化铝的活 性。尽管还有一些来与单或双取代的CFC进行残余反应，大部分化合物可以进 行精确的质量测定或杂质分析。
Restek极性最小的氧化铝柱。 对湿度的敏感性小，降低的频繁再生的需要。 洗脱顺序乙炔在正丁烷之前。 洗脱顺序甲基乙炔 (1,3-丁二烯中杂质)在1,3-丁二烯之前。
Restek公司的R&D化学家优化了去活化技术，并应用到Rt®-Alumina BOND/MAPD 色谱柱中，来提高微量的极性烃类的分析，比如含有较高水平的C1-C5烃类的烃流中的乙炔，甲基乙炔和丙二烯的分析。我们的氧化铝PLOT去活化技术产生 了具有很强惰性的色谱柱，在重新校正之前进行大量的数据分析时可以提供优 越的再现性和稳定的响应因素。其高容量减少了脱位峰，从而提高了目标化合 物的分析。另外，250°C最高工作温度可以让你更迅速的洗脱十二烷烃类，并且当你的色谱柱吸附了样品和载气中的水分时能减少再生时间。
洗脱顺序乙炔和丙二烯在丁烷之后。 最佳的分离丁烯同分异构体(丁烯流中的杂质)。 洗脱顺序甲基乙炔在1,3-丁二烯之后。 环丙烷(丙烯中的杂质)在丙烯之前能很好的洗脱出来。
Rt-Msieve 5A PLOT柱能有效的分离Ar/O2以及其他永久性气体，包括CO。 特殊涂层和去活化过程确保色谱效率和多孔层涂料的完整性。 去活化处理技术可使CO以尖锐的色谱峰洗脱出来。 能够在室温或更高温度分离Ar/O2和H2/He。 还可用于快速分离炼厂气或天然气中的永久性气体。
非极性PLOT色谱柱，100%二乙烯基苯。 对C1-C3异构体具有卓越的分离能力，最高可以分离含有12个C的烷烃。 强保留使得CO2 气体分析简化; 可用于CO2和甲烷与O2/N2/CO分离 (注意：O2/N2/CO在室温时无法分离)。 可用于氧化物和溶剂分析。 最高操作温度：300 °C。
Rt-QS-BOND 色谱柱(熔融石英PLOT) 多孔二乙烯基苯均聚物 中等极性PLOT色谱柱，含有4-乙烯基吡啶。 乙烷、乙烯、乙炔可实现基线分离。 温度范围：-60 至 250 °C。
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